半导体聚合反应后的过滤环节既要考虑到筒体内壁没有物料残留，又要考虑高纯洁净以及耐腐蚀性能，选用高纯 PFA 喷涂层，主要用于光刻胶产业链中的重要精密过滤环节。高纯 PFA 涂层金属杂质可以控制在 1 个 PPb 以内，更高纯度要求下可以做到 0.1 个 PPb。目前用于聚合反应的过滤设备以三合一多功能过滤机、烛式过滤器、微孔精密过滤器为主。喷涂最大尺寸 10m³(如果批量比较大，我们可以定制更大的烤炉), 厚涂厚度范围 300μm 至1000μm,涂层颜色：常用米黄色和黑色。

半导体电子化学品的过滤环节既要考虑到高纯洁净又要考虑到耐腐蚀性能，根据纯度要求不同，选用高纯 PFA 内衬(纯度可达 G3,G4,G5)，NEW-PTFE 内衬(纯度可达 G3,G4,G5)，PTFE内衬(纯度可达 G3)。目前用于半导体电子化学品的过滤设备以烛式过滤器、微孔精密过滤器为主。内衬最大尺寸 150m³,衬里厚度范围 2mm 至 4mm。

过滤器针对过滤器内部的耐腐蚀，防静电，不粘，超高纯等需求，我公司的氟塑料喷涂和内衬工艺可以有效解决这些问题。

三合一多功能过滤机（高纯 PFA 喷涂）

滤芯式过滤器（高纯 PFA 喷涂）

微孔精密过滤器（高纯 PFA 喷涂）

微孔精密过滤器内衬 NEW-PTFE

微孔精密过滤器（高纯PFA喷涂）

烛式过滤器（高纯PFA喷涂）

孔板式压滤机（高纯PFA喷涂）

半导体级过滤

滤芯式过滤器（喷涂高纯 PFA ）

什么样的工况要求选用喷涂或内衬？

• 纯度要求在G4至G5，选择内衬PTFE、内衬new-PTFE和PFA最保险；纯度要求在G3，可以选择高纯PFA喷涂。结构比较复杂的异形时，G3以上要求也可以选择高纯PFA喷涂，提高喷涂洁净度和特殊工艺优化，可以达到G4。喷涂技术与国外技术同步。前期有担心纯度不达标，我司免费为客户提供喷涂样品，免费做试验，可提供样板、样棒、50升反应釜样机做测试。

过滤孔板与滤层固定

• 常规的结构都是采用哈氏合金螺栓固定，有高纯要求用哈氏合金螺栓固定会导致金属粒子超标，我司有更多结构方案解决此问题，即解决固定强度问题，又解决纯度问题。

组装调试过程可以修补吗？

• 组装调试过程中，涂层有局部损坏，可以现场修补（但环境一定要有洁净车间，至少万级），修补经验丰富，焊接质量没有问题。

喷涂颜色有几种？

• 一共有米黄色、黑色、灰色，特殊要求可以喷白色、绿色。

设备结构图纸

FH-21B023-A 6芯φ70过滤器

FH-21B023-B 底板支撑板

设备图纸